潔凈室中的溫濕度控制
作者：浙江旭才環保科技有限公司 日期：2017-10-19
潔凈(jing)空間的(de)溫濕度(du)主(zhu)要(yao)是根據工(gong)藝(yi)要(yao)求(qiu)來確定，但在(zai)滿足工(gong)藝(yi)要(yao)求(qiu)的(de)條件(jian)下，應考慮到人(ren)的(de)舒(shu)適度(du)感。隨(sui)著空氣潔凈(jing)度(du)要(yao)求(qiu)的(de)提高，出現了工(gong)藝(yi)對溫濕度(du)的(de)要(yao)求(qiu)也(ye)越來越嚴(yan)的(de)趨勢。
具(ju)體(ti)工藝對溫(wen)度的要求以(yi)后還要列舉，但作為總的原(yuan)則看，由于(yu)加工精(jing)度越(yue)來越(yue)精(jing)細，所(suo)以(yi)對溫(wen)度波動(dong)范(fan)圍的要求越(yue)來越(yue)小。例(li)如在大規模(mo)集(ji)成電路生產的光刻曝光工藝中，作為掩膜板材料(liao)的玻璃(li)與(yu)硅(gui)(gui)片(pian)的熱(re)膨脹(zhang)系數的差要求越(yue)來越(yue)小。直徑(jing)100 um的硅(gui)(gui)片(pian)，溫(wen)度上升(sheng)1度，就引起了(le)0.24um線性(xing)膨脹(zhang)，所(suo)以(yi)必須(xu)有(you)±0.1度的恒(heng)溫(wen)，同(tong)時要求濕度值一(yi)般較低，因為人(ren)出汗以(yi)后，對產品將有(you)污染，特別是怕鈉的半導(dao)體(ti)車(che)間，這(zhe)種車(che)間不宜超過25度。
濕度(du)(du)(du)過(guo)高產生的(de)問(wen)題更多，相(xiang)對(dui)(dui)濕度(du)(du)(du)超過(guo)55%時，冷卻水管(guan)壁上會結(jie)露(lu)，如(ru)果(guo)發生在(zai)精(jing)密(mi)裝置或電路中，就(jiu)會引起各種事故。相(xiang)對(dui)(dui)濕度(du)(du)(du)在(zai)50%時易生銹。此外，濕度(du)(du)(du)太高時將通過(guo)空氣中的(de)水分子把(ba)硅(gui)片表(biao)面粘著的(de)灰塵化學吸附在(zai)表(biao)面耐難(nan)以清除。相(xiang)對(dui)(dui)濕度(du)(du)(du)越高,粘附的(de)難(nan)去掉，但當(dang)相(xiang)對(dui)(dui)濕度(du)(du)(du)低(di)于30%時，又(you)由于靜電力的(de)作用使(shi)粒子也(ye)容易吸附于表(biao)面，同時大量半導(dao)體器件容易發生擊穿。對(dui)(dui)于硅(gui)片生產較佳溫(wen)度(du)(du)(du)范(fan)圍為35—45%。
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